《金基研》晨曜/作者 楊起超 時風/編審
2025年8月6日是深圳市龍圖光罩股份有限公司（以下簡稱“龍圖光罩”）科創板上市一周年。作為國內稀缺的獨立第三方半導體掩模版供應商，龍圖光罩在全球半導體產業景氣度回升、國產替代加速的背景下，憑借技術突破、產能擴張、客戶資源積累，在特色工藝領域逐步實現進口替代。
近年來，龍圖光罩的營收及歸母凈利潤逐年增長，毛利率及ROE均超過行業平均水平，經營活動獲取現金的能力良好，資產負債率低于行業均值，其成長性、盈利能力、財務穩健性顯現。隨著募投項目產能釋放和更高制程節點產品放量，龍圖光罩有望通過“高端制程突破+客戶結構升級”雙引擎驅動業績增長。
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一、下游半導體產業蓬勃發展，獨立第三方掩模版行業市場空間廣闊
作為一家國內稀缺的獨立第三方半導體掩模版廠商，龍圖光罩主營業務為半導體掩模版的研發、生產和銷售。龍圖光罩掩模版產品廣泛應用于功率半導體、MEMS傳感器、IC封裝、模擬IC等特色工藝半導體領域。
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1.1、下游半導體行業景氣度上升，產品創新及迭代周期縮短
掩模版是芯片制造的“母版”，其精度與質量直接決定了芯片的性能和制程水平。隨著半導體產業的蓬勃發展，對掩模版的需求不斷攀升。
從全球看，據美國半導體行業協會（SIA）數據，2020-2024年，全球半導體銷售額分別為4,930億美元、5,559億美元、5,735億美元、5,268億美元、6,276億美元。其中，2024年全球半導體銷售額同比增長19.1%。
此外，據SEMI在2024年第四季度發布的《世界晶圓廠預測》報告顯示，全球半導體行業從2023年至2025年計劃開始運營97家新的大型晶圓廠，其中包括2024年的48個項目和2025年將啟動的32個項目。全球半導體產能將進一步擴充，預計2025年年增長率將達到6.6%。
從國內看，全球貿易保護主義抬頭，為保障供應鏈安全，國內企業加大在芯片制造領域的投入。國內芯片制造端產能仍在繼續擴張，據SEMI數據，2024年國內芯片制造商的月產能（以8英寸晶圓計）預計增長15%，達885萬片；2025年將進一步增長14%，達到約1,010萬片，連續兩年保持兩位數增長。
據國家統計局數據，國內集成電路產量從2020年的2,614.23億顆增長至2024年的4,514.23億顆，五年CAGR達14.63%。2025年上半年，國內集成電路產量為2,394.7億顆，同比增長8.7%。
由于掩模版在半導體生產中發揮光刻模具的作用，可多次曝光、重復使用，因此其需求不僅取決于半導體行業的整體規模，更與下游產品的創新頻率密切相關。半導體創新產品越多，掩模版需求量越大。
隨著國內半導體行業國產替代進程的推進，技術水平持續提升，芯片設計企業加速新產品研發，帶動掩模版需求不斷增長。
近年來，新能源、AI、自動駕駛、物聯網、5G通信、VR/AR、元宇宙等新興領域呈現出強勁的增長態勢，促使半導體企業加快技術創新和產品升級步伐，推動了掩模版市場規模的持續擴大。
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1.2、國內政策支持半導體相關產業發展，掩模版進口替代加速且空間廣闊
為構建自主可控的半導體產業鏈，國家相關支持政策明確了半導體行業在國民經濟中的戰略地位。國內政府從財政、稅收、技術、人才、知識產權等多個方面對半導體產業及其關鍵材料給予政策支持，為半導體行業創造了良好的經營環境，有力地推動了國內半導體行業的發展。
掩模版作為半導體產業的上游核心材料，技術壁壘高，國產化率低，長期依賴國外進口，在當前貿易摩擦、半導體產業逆全球化的國際形勢下，國產替代大勢所趨。
長期以來第三方半導體掩模版市場主要被美國Photronics、日本Toppan、日本DNP等國際掩模版巨頭所控制。中國內地廠商已量產的半導體掩模版仍主要停留在350-130nm，130nm以下工藝節點目前參與廠商較少。
據中國電子協會官網數據，目前國內半導體掩模版的國產化率約為10%，高端掩模版的國產化率僅約3%。
國內晶圓廠的產能持續擴張，帶動了對掩模版的旺盛需求，這為國產掩模版企業提供了廣闊的發展空間，眾多國內掩模版廠商抓住機遇，不斷提升產品質量和技術水平，逐步實現了對部分進口產品的替代。
隨著新能源汽車、光伏發電、自動駕駛、物聯網等新興技術的產業化推進，未來十年國內半導體行業尤其是特色工藝半導體有望迎來進口替代與成長的黃金時期。作為半導體核心原材料的國內半導體掩模版行業發展迎來了歷史性的機遇。
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1.3、半導體掩模版具有逆產業周期特性，獨立第三方掩模版廠商市場份額上升
值得一提的是，半導體掩模版具有部分逆產業周期特性，行業需求穩定性高。
當半導體行業處于下行周期，晶圓制造廠商的產能利用率不足時，會向眾多的中小芯片設計公司提供晶圓代工服務，從而生產的半導體產品類型亦會增多，相應增加掩模版的需求量；當下游需求低迷時，芯片設計公司將通過設計新產品刺激市場，提升銷量，新產品也會帶來對掩模版的增量需求。
此外，隨著制程工藝逐漸成熟及第三方掩模版廠商的制作水平的不斷提升，自建掩模工廠的諸多弊端逐漸顯現，如設備及人工投入巨大、生產環節復雜、成本昂貴等。
第三方半導體掩模版廠商能充分發揮專業化、規模化優勢，具有顯著的規模經濟效應。在技術水平、產品性能指標符合要求的前提下，獨立第三方掩模版廠商對晶圓制造廠商的吸引力不斷增加，其市場份額將持續增加。
綜上，在當前全球及國內半導體行業景氣度上升、產品創新及迭代周期縮短的大背景下，掩模版市場需求不斷增長。同時，國家政策的支持為半導體產業創造了良好的發展環境，掩模版國產替代空間廣闊且進程加速。此外，掩模版行業獨特的逆周期屬性增強了需求的穩定性。憑借專業化和規模優勢，以龍圖光罩為代表的第三方半導體掩模版廠商正逐步實現進口替代，并持續擴大市場份額。
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二、產銷量持續上升且收入結構優化，90nm節點掩模版實現量產
自2024年8月上市以來，龍圖光罩持續優化產品結構，充分挖掘現有產能潛力，產品產銷規模穩步增長。同時，龍圖光罩不斷增加投入進行技術攻關和產品迭代，加快募投項目的建設運營進度，實現制程升級。
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2.1、產品產銷量逐年增長，石英掩模版銷售收入占比上升
據龍圖光罩招股書及公告，2022-2024年，龍圖光罩的掩模版產品產量分別為6.55萬片、7.47萬片、7.90萬片，CAGR為9.85%；銷量分別為6.54萬片、7.46萬片、7.93萬片，CAGR為10.12%。
按基板材質的不同，龍圖光罩生產的掩模版產品主要可分為石英掩模版、蘇打掩模版兩類。龍圖光罩持續將產能、研發、市場資源向石英掩模版領域傾斜，收入結構不斷優化，高制程、高精度的石英掩模版產銷量和收入占比持續提升。
2022-2024年，龍圖光罩的石英掩模版產量分別為2.52萬片、3.42萬片、4.09萬片，CAGR達27.42%；銷量分別為2.51萬片、3.42萬片、3.81萬片，CAGR達23.38%。
同期，龍圖光罩的石英掩模版銷售收入分別為1.12億元、1.72億元、2.00億元，CAGR達33.53%；占主營業務收入比例分別為69.59%、78.79%、81.31%。
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2.2、2025年上半年90nm節點掩模版實現量產，珠海工廠新產品逐步放量
在深挖產能潛力的同時，龍圖光罩緊跟國內特色工藝半導體發展路線，持續推進技術攻關和產品迭代。
2025年上半年，龍圖光罩珠海項目已順利投產，其第三代掩模版PSM產品取得顯著進展。龍圖光罩KrF-PSM和ArF-PSM陸續送往部分客戶進行測試驗證，其中90nm節點產品已成功完成從研發到量產的跨越，65nm產品已開始送樣驗證。龍圖光罩還完成了40nm工藝節點的生產設備布局。龍圖光罩在高端制程的競爭力進一步增強，覆蓋的下游領域更加豐富。
預計2025年下半年，隨著珠海工廠新產品逐步放量，龍圖光罩季度營收預計將實現明顯的同比增長。龍圖光罩將以珠海基地產能釋放為轉折點，通過“高端制程突破+客戶結構升級”雙引擎推動業績增長。憑借扎實的技術積累與良好的客戶基礎，龍圖光罩有望在2025年下半年迎來營業收入的明顯增加。
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2.3、與核心客戶緊密協作，某全球領先晶圓廠流片驗證順利
與此同時，龍圖光罩始終保持與核心客戶的緊密協作，不斷深化與國內頭部晶圓廠的戰略合作關系。
2025年上半年，龍圖光罩更高制程節點的產品已在某全球領先的晶圓代工廠完成產品流片，生產線上收集的各項關鍵驗證數據均滿足客戶要求。該節點驗證通過后，龍圖光罩將可覆蓋該客戶三分之一以上的產品需求。
此外，龍圖光罩更高等級產品的前期工藝匹配工作正在推進，預計2025年下半年將開始流片驗證，屆時將覆蓋該客戶絕大部分需求，為龍圖光罩長遠發展打下良好的基礎。
總的來說，自上市以來，龍圖光罩在產能擴張、產品結構優化和高端制程突破方面持續發力，展現出蓬勃的發展勢頭。隨著募投項目產能釋放和高端產品放量，2025年下半年龍圖光罩營收有望加速增長，形成“高端制程突破+客戶結構升級”雙輪驅動的格局。
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觀其業績，近年來龍圖光罩的經營規模快速增長，成長性優異。同時，龍圖光罩的毛利率及加權平均凈資產收益率均高于行業平均水平，盈利能力突出。
3.1、營收及凈利潤逐年增長，近三年CAGR高于行業均值
據龍圖光罩招股書及公告，2022-2024年及2025年1-3月，龍圖光罩的營業收入分別為1.62億元、2.18億元、2.47億元、0.54億元，最近三年營收CAGR為23.53%。
同期，龍圖光罩的歸母凈利潤分別為6,448.21萬元、8,360.87萬元、9,183.29萬元、1,733.39萬元，最近三年歸母凈利潤CAGR為19.34%。
營業收入增長率是衡量企業成長能力的關鍵指標，而歸母凈利潤增長率則反映企業的盈利質量和未來發展潛力。
近三年，龍圖光罩的營收及歸母凈利潤CAGR均高于行業平均水平。據東方財富Choice數據，2022-2024年，龍圖光罩所屬的申萬行業分類“電子-半導體”中164家上市公司的營收及歸母凈利潤CAGR均值分別為11.67%、-66.82%。
3.2、毛利率及ROE均超過行業平均水平，盈利能力突出
與此同時，近年來龍圖光罩的毛利率及ROE高于行業均值，盈利能力顯現。
據龍圖光罩招股書及公告，2022-2024年及2025年1-3月，龍圖光罩的毛利率分別為61.03%、58.87%、57.01%、52.44%；ROE分別為28.55%、16.35%、11.68%、1.43%。
同期，據東方財富Choice數據，龍圖光罩所屬的申萬行業分類“電子-半導體”中164家上市公司的毛利率均值分別為38.09%、33.07%、32.45%、32.61%；ROE均值分別為8.88%、3.03%、3.20%、0.57%。
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3.3、經營活動現金流量凈額逐年上升，資產負債率低于行業均值
近年來，龍圖光罩的經營活動現金流量凈額持續上升，內生“造血”能力不斷增強。據龍圖光罩招股書及公告，2022-2024年，龍圖光罩經營活動產生的現金流量凈額分別為0.71億元、1.01億元、1.09億元。
此外，龍圖光罩的資產負債率持續低于行業均值，償債風險低。2022-2024年及2025年1-3月，龍圖光罩的資產負債率分別為9.57%、12.40%、8.32%、5.66%。同期，據東方財富Choice數據，龍圖光罩所屬的申萬行業分類“電子-半導體”中164家上市公司的資產負債率均值分別為24.88%、24.26%、25.86%、25.69%。
盡管經營規模擴大導致期間費用總額有所上升，但龍圖光罩通過提升運營效率、推動國產材料替代、嚴控成本支出，有效降低了費用率水平，期間費用率持續低于行業均值。
2022-2024年及2025年1-3月，龍圖光罩的期間費用率分別為18.36%、15.75%、16.51%、19.17%。同期，據東方財富Choice數據，龍圖光罩所屬的申萬行業分類“電子-半導體”中164家上市公司的期間費用率均值分別為26.77%、30.54%、30.12%、31.90%。
簡言之，龍圖光罩在業績成長性、盈利能力及質量、財務穩健性等方面均表現突出，具備顯著的市場競爭力和發展潛力。
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四、擁有多層次且高粘性優質客戶資源，已通過諸多知名晶圓廠商認證
優質、穩定的客戶資源是龍圖光罩業績持續增長和實現戰略升級的核心驅動力之一。龍圖光罩憑借良好的客戶需求轉換能力、制程能力、品質保證能力、技術服務能力等，不斷開拓行業內大客戶，獲取穩定訂單，推動產品銷售并實現盈利。
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4.1、與諸多知名客戶長期穩定合作，形成多層次客戶結構
多年來，龍圖光罩以半導體特色工藝為切入點，憑借扎實的技術實力、優質的服務與可靠的產品質量，逐步被納入國內大型特色工藝晶圓制造商的合格供應商名錄，并不斷擴大合作規模。龍圖光罩已與眾多知名客戶建立了長期穩定的合作，并形成了優質的客戶結構。
目前，龍圖光罩的客戶不僅涵蓋芯片制造廠商、MEMS傳感器廠商、先進封裝廠商，還包括進行基礎技術研究的知名高校及科研院所。
優質的客戶結構為龍圖光罩帶來了穩定、持續的合作和大量訂單需求，進一步支撐了其未來業績的穩定增長。
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4.2、下游客戶對供應商考核嚴苛且認證周期長，已通過諸多知名晶圓廠商認證
掩模版是光刻環節不可或缺的工具，對晶圓制造和芯片品質影響巨大，因此下游晶圓制造工廠對掩模版廠的要求非常嚴苛，需要持續考察、全面評估掩模版工廠的各項能力。一般情況下，晶圓制造工廠對掩模版工廠的驗證和供應商評估期在6至12個月，甚至更長。
因此，一旦建立合作關系，晶圓制造廠通常不會輕易更換掩模版供應商，合作關系穩定，客戶粘性強。
目前，龍圖光罩產品已通過多個國內知名晶圓制造廠商的認證，如華虹宏力、芯聯集成、士蘭微、立昂微、燕東微、新唐科技、比亞迪半導體、粵芯半導體、長飛先進、揚杰科技等。
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4.3、建立光刻機制版要求信息庫，提升客戶服務能力增強合作粘性
同時，全面的客戶服務能力提升了龍圖光罩與客戶的合作粘性，是其競爭優勢之一。龍圖光罩快速響應市場和客戶的需求，通過高品質服務，實現與客戶的密切聯系與合作。
下游晶圓制造廠商的核心設備，如光刻機同樣存在型號多、二手設備普遍等特點。掩模版工廠除了需要對晶圓制造廠的制版等級要求（品質規格和標準）嚴格執行外，還需充分掌握客戶光刻機臺的特點及其特殊要求。
通過建立并掌握市場上主流光刻機的制版要求信息庫，龍圖光罩能夠精準識別和理解不同客戶設備的特殊需求，有效縮短與晶圓廠的磨合周期，增強合作粘性。
在售后服務方面，龍圖光罩保存了所有掩模版的出廠信息，對所有需要二次服務的掩模版可以追溯到其生產信息、品質信息，當掩模版在使用過程中出現異常時，可迅速定位問題原因并提供解決方案，保障客戶生產順利進行。
綜述之，龍圖光罩構建了以國內知名晶圓制造企業為核心的優質客戶體系，形成了多層次、高粘性的客戶結構。同時，龍圖光罩建立了完善的光刻機制版要求信息庫和產品追溯體系，能夠快速響應客戶需求，并提供高效的售后服務，持續提升客戶滿意度與合作粘性。
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五、加碼研發提升核心競爭力，三大方面技術水平達國內領先
良好的技術工藝水平及持續技術研發能力是龍圖光罩贏得半導體行業內諸多客戶認可的關鍵因素。作為一家擁有自主知識產權的獨立第三方半導體掩模版廠商，龍圖光罩具備關鍵技術攻關能力，持續加大研發投入，全力追趕國際先進技術水平。
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5.1、近三年研發投入CAGR達22.61%，研發人員占比為17.41%
據龍圖光罩招股書及公告，2022-2024年及2025年1-3月，龍圖光罩的研發投入分別為1,533.31萬元、2,017.59萬元、2,305.07萬元、565.42萬元，占當期營業收入的比例分別為9.49%、9.24%、9.35%、10.40%。最近三年，龍圖光罩研發投入CAGR達22.61%。
半導體掩模行業是高度知識密集型的行業，人才是龍圖光罩發展的核心競爭力之一。龍圖光罩打造了一支高素質、富有創新精神的研發團隊。截至2024年12月31日，龍圖光罩擁有研發人員43人，占員工總數的比例為17.41%。
同時，龍圖光罩與高校、科研院所開展產學研合作，提升研發實力。龍圖光罩與廣東省科學院半導體研究所、華南理工大學發光材料與器件國家重點實驗室達成了產學研合作協議，開展聯合攻關，實現資源共享與全面合作。
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5.2、三大方面技術達國內領先水平，掌握核心工藝技術14項
經過十余年的技術創新與沉淀，龍圖光罩形成了涵蓋CAM（計算機輔助制造）版圖處理、光刻及檢測的三大核心技術體系，解決了高精度掩模版制作過程中精度及缺陷控制的難題，獲得了一系列技術成果，制程能力、精度控制及缺陷控制達到國內領先的水平。
截至2024年12月31日，龍圖光罩形成了14項自主研發的核心技術，包括圖形補償（OPC）技術、精準對位標記技術、光刻制程管控技術、曝光精細化控制技術、缺陷修補與異物去除技術等。
同時，龍圖光罩還開展技術布局與儲備，自主研發掌握了電子束光刻及套刻技術及PSM相移掩模版相關技術。
截至2024年12月31日，龍圖光罩已取得25項發明專利及36項軟件著作權。
上述研發成果的實現有利于龍圖光罩增加技術儲備，保持其在半導體掩模版領域的技術優勢。
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5.3、2024年四類研發項目科研成果豐富，凸顯研發創新能力
近年來，龍圖光罩的研發重點涵蓋產品創新、技術升級以及工藝優化等多個領域，旨在突破更高技術節點、提升生產效率與產品質量，以更好地滿足客戶需求。龍圖光罩的研發項目主要分為新品研發項目、工藝開發項目、軟件開發項目和設備研發項目。
截至2024年12月31日，龍圖光罩各主要研發項目的進展情況如下：
新品研發項目：目前已完成基于半導體BCD工藝制程用掩模版產品研發、光芯片用掩模版產品研發、110nm節點半導體用掩模版產品研發和第三代掩模版產品研發等。
工藝研發項目：目前已完成0.13～0.35um工藝節點高端功率芯片光罩缺陷綜合檢測技術研發、掩模版的MPC分辨率增強技術研究、不同機臺掩模registration基準匹配研發、130nm節點功率半導體用掩模版良品率提升項目研發和DUV用掩模版表面清洗離子殘留控制技術等。
軟件研發項目：目前已完成基于SPC在線監控系統的掩模版制程穩定性提升的研發項目和
PSM掩模版CAM環節分辨率增強及自動化處理提升研究項目。
設備研發項目：目前已完成精密掩模版光學防塵膜Remount設備研發。
2024年，龍圖光罩新增4項核心工藝技術，新獲授權專利18項（發明專利、實用新型專利各9項）。
憑借強大的研發實力、持續的自主創新能力以及深厚的行業經驗，龍圖光罩獲得了國家工信部專精特新“小巨人”企業認定、廣東省功率半導體芯片掩模版工程技術研究中心認定、廣東省專精特新中小企業認定、國家高新技術企業認定。
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六、結語
綜上所述，近年來全球半導體行業景氣度上升，且半導體產品創新及迭代周期縮短，帶動掩模版需求穩步增長。隨著全球半導體產業鏈加速重構，國產替代需求迫切，獨立第三方掩模版廠商迎來歷史性機遇。受益于下游市場需求的增長，近年來龍圖光罩在業績成長性、盈利能力及質量、財務穩健性等方面均表現突出，市場競爭力和發展潛力顯現。
深耕特色工藝半導體領域多年，龍圖光罩重視技術創新研發，持續加大研發投入力度，獲得了一系列技術成果，量產產品的核心性能指標處于國內領先水平。此外，龍圖光罩積累了多層次、高粘性的優質客戶資源，為業績可持續增長打下基礎。上市以來，龍圖光罩產品產銷量不斷增長，收入結構持續優化；90nm節點掩模版實現量產，珠海工廠新產品逐步放量，展現出良好的發展勢頭。
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